HiPIMS power-supply high power impulse magnetron sputtering hppms Pulse puttering Plasma dc-pulse pulsed dc supply sputter thin thilm deposition source dual single planar rotatable technology super imposed deposition unipolar bipolardual coating frequency dünnfilm prozess process pvd production stromversorgung Gerhard Eichhofer QR Code Atelier Lunke

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English

HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering HIPIMS; or HPPMS: High Power Pulse Magnetron Sputtering) is a relatively newly introduced PVD technology. It combines idealistically the advantages of cathodic ARC-evaporation with magnetron sputtering. The material to be deposited is highly ionized. This technology enables possibilities for unique thin film creations with enhanced properties. HiPIMS.eu provides its customers with state of the art plasma power delivery solution and concepts for this new and promising technology. Further HiPIMS.eu offers assistance in integrating the new technology into existing process equipment. HiPIMS.eu is the competent contact for HIPIMS-PS and HIPIMS-applications.

HiPIMS PLASMA

Deutsch

HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering HIPIMS, oder HPPMS: High Power Pulse Magnetron Sputtering) ist eine relative neue Magnetronsputtertechnolgie. Sie verbindet idealerweise die Vorteile vom Kathodischen ARC-Verdampfen -> hoher Anteil an ionisierter Materie, sowie die des Magnetronsputterns -> dropletfreie, homogene Beschichtungen. Diese innovative Technologie eröffnet neue Gestaltungmöglichkeiten in der Beschichtungstechnik und erzielt Schichteigenschaften die mit konventionellem Magnetronsputtern unrealisierbar wären. Wenn es um HiPIMS-Stromversorgungen und deren Anwendung geht ist hipims.eu der kompetente Ansprechpartner. hipims.eu steht für Innovation, Zuverlässigkeit und Qualität.